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用于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的水冷基底托架装置

833   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:05
本实用新型涉及一种用于直流弧光放电等离子体化学气相金刚石薄膜沉积的水冷基底托架装置,它由不锈钢真空法兰、聚砜法兰、“T”型基底托架、水箱连接件、冷却水套管、热电偶套管、热电偶、水嘴、锁紧螺母组成,其特征在于“T”型基底托架背面、水箱连接件中心部位分别焊接有热电偶套管、冷却水套管,两者由螺纹连接后形成水循环空间,“T”型基底托架通过聚砜法兰与反应腔体绝缘,并可上下移动、旋转,托架表面温度由热电偶测量,所有部件均可灵活拆卸,真空、水冷性能好,并采用在此装置制备出高品质的金刚石薄膜。
声明：
“用于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的水冷基底托架装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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