合肥金星智控科技股份有限公司
宣传

位置:中冶有色 >

有色技术频道 >

> 化学分析技术

> 压力控制系统和等离子体沉积设备

压力控制系统和等离子体沉积设备

827   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:05
本实用新型涉及等离子化学气相沉积技术领域,公开了压力控制系统及应用了该压力控制系统的等离子体沉积设备。其中,压力控制系统包括:与真空腔体通过真空管道连接的真空泵,真空管道上设置有电控制阀门;用于测量真空腔体的真空度的真空计,真空计和电控制阀门通过可编程序控制器通信连接。本实用新型所提供的压力控制系统能够自发调节真空腔体内的压力,使得气压保持在一定范围内。
声明:
“压力控制系统和等离子体沉积设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
分享 0
         
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
标签:
化学分析
全国热门有色金属技术推荐
展开更多 +

 

中冶有色技术平台微信公众号
了解更多信息请您扫码关注官方微信
中冶有色技术平台微信公众号中冶有色技术平台

最新更新技术

报名参会
更多+

报告下载

第二届关键基础材料模拟、制备与评价技术交流会
推广

热门技术
更多+

衡水宏运压滤机有限公司
宣传
环磨科技控股(集团)有限公司
宣传

发布

在线客服

公众号

电话

顶部
咨询电话:
010-88793500-807
专利人/作者信息登记