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直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的基底恒温技术

845   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:04
本发明公开了一种用于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的基底自动恒温技术,其特征是采用双热电偶分别对基底侧面、背面温度进行测量并校正,由带负反馈功能PID调节器、后备操作器、电动调节阀组成的闭环控制系统进行精确控温,并开发了基于BT2000工控组态软件平台的WINDOWS人机交互界面,用于温度、阀位、沉积过程的监控、数据采集和存储。本发明具有控制精度高,操作方便,极其适合直流弧光放电等离子体化学气相金刚石薄膜的制备。
声明：
“直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的基底恒温技术” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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