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锇膜的电镀制备方法

1092   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:57:04
本发明公开了一种厚度在1微米以上的锇膜及其制造方法。该方法通过在玻璃基片上用PVD法镀铬膜，再在铬膜上用PVD法镀一层导电系数高、化学稳定性好的金膜，然后在金膜上电镀锇膜而成。电镀分次进行、从而使锇膜厚度达到1微米以上。本发明的锇膜可用于制备空间原子氧环境探测器，解决了传统的PVD方法淀积锇膜容易发生开裂现象以及锇层镀不厚问题。
声明：
“锇膜的电镀制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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