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硫掺杂的本征多孔磷化镍钴纳米片的制备方法及应用

658   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:59
本发明提供了一种硫掺杂的本征多孔磷化镍钴纳米片的制备方法及应用,具体包括:a.制备硫掺杂的本征多孔磷化镍钴纳米片;b.将上述制备的硫掺杂的本征多孔磷化镍钴纳米片作为工作电极,铂片为对电极,饱和甘汞电极为参比电极,组成三电极体系进行电化学性能测试。该本征态有效解决了磷化镍钴结构稳定性差的难题。所制备的硫掺杂的本征多孔磷化镍钴纳米片电极在电流密度为1安培/克时的比电容量可以达到2050法拉/克,当电流密度为5安培/克时,进行10000圈循环之后,仍能保持原始容量的85%。
声明:
“硫掺杂的本征多孔磷化镍钴纳米片的制备方法及应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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