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在半导体结构中消除凸点效应的方法

954   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:58
本发明提供一种在半导体结构中消除凸点效应的方法，该方法通过分别利用双氧水和He等离子体清洗经过化学机械研磨平坦化处理过的基片表面，以除去残留的有机物和金属微粒，然后依次在清洗过的基片表面形成金属粘附层和超低k介电层，通过UV固化处理后形成多孔超低k介电层。利用扫描电镜测试最终形成的半导体结构，证明了本发明的方法消除了传统工艺中表面容易出现的凸点效应，提高了半导体器件的良率。
声明：
“在半导体结构中消除凸点效应的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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