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类金刚石薄膜的制备方法

639   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:57
本发明提供在类金刚石材料上，利用等离子体增强化学气相沉积法制备方式，在类金刚石表面进行镀膜。利用利用双放电腔微波‑ECR等离子体全方位注入设备，采用PECVD技术制备的DLC薄膜能够达到对薄膜表面改性的目的。PECVD复合技术制备的Si/SiC/DLC梯度薄膜表面光滑致密，缺陷少，由尺寸均匀的纳米颗粒组成。薄膜的RMS粗糙度较低，在1.5nm左右变化。利用表面轮廓仪测得梯度薄膜的厚度约为1.2±0.1μm，Si，SiC过渡层厚度大约分别为：80±10nm，100±10nm，150±10nm，200±10nm。
声明：
“类金刚石薄膜的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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