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用于多晶硅层的研磨工艺及晶圆

801   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:36
本发明公开了一种用于多晶硅层的研磨工艺，包含以下步骤：1)测量晶圆厚度；2)对晶圆的多晶硅层进行化学机械研磨以获得研磨面；3)对研磨面进行RCA清洗；4)对研磨面进行抛光研磨；5)对研磨面进行CPC清洗；6)再次测量晶圆的厚度。该研磨工艺能够有效减少多晶硅表面随机分布的凸起缺陷。本发明同时提供一种使用上述研磨工艺制备的晶圆。
声明：
“用于多晶硅层的研磨工艺及晶圆” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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