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可控垂直硒化铋纳米片薄膜及其制备方法

822   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:56:35
本发明的目的在于提供一种可控垂直硒化铋纳米片薄膜，所述薄膜由垂直于基体的Bi2Se3纳米片组成，纳米片尺寸为50纳米～50微米。本发明采用化学气相沉积法制备Bi2Se3薄膜，该方法能够可控的制备出高质量的具有明显光电响应的薄膜，测试发现该薄膜具有N型导电特性，可以和P型硅基片形成N型薄膜/P型硅片的双层结构，具有明显的可见光和近红外光电响应能力和较快光电响应时间，尤其在近红外波段具有强的光响应能力，具有良好的电探测应用前景。
声明：
“可控垂直硒化铋纳米片薄膜及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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