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新型PECVD的镀膜工艺

757   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:28:36
本发明涉及晶体硅表面镀膜领域，具体是一种新型PECVD的镀膜工艺，工艺步骤为：进炉升温稳定温度；氨气吹扫；抽真空检漏；预沉积；通化学反应气体开射频电离；抽真空；充气；退火；出炉。采用本发明的镀膜工艺镀膜的硅片制备的电池片因为修复了硅片表面的轰击损伤，降低了硅片表面的悬挂键数量，减少了复合中心，降低了电子的复合速率，增加了用于输出电流的电子空穴对，提高了电池片的短路电流，提高了电池片的效率，极大地增加了在本行业的竞争力。
声明：
“新型PECVD的镀膜工艺” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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