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再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方法

904   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:28:34
本公开涉及再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方法，该方法包括以下连续步骤：(a)对所述构件的表面进行喷砂处理；(b)用浓度为40‑100g/L的无机酸溶液清洗所述构件的表面；(c)检查所述构件的表面；(d)对所述构件的表面进行激光定点清洗；(e)对所述构件的表面进行超声波清洗；(f)对所述构件的表面进行研磨处理；(g)对所述构件的表面进行喷砂处理；(h)使用干冰对所述构件的表面进行清洗；(i)用酸性或碱性溶液对所述构件的表面进行化学刻蚀；(j)对所述构件的表面进行超声波清洗；(k)对所述构件的表面进行高压清洗；以及(l)干燥所述构件的表面。
声明：
“再生PECVD设备或DRY ETCH设备腔体中的构件的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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