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用于MOCVD系统中控制外延片温度及均匀性的装置与方法

978   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:28:33
一种用于MOCVD系统中控制外延片温度及均匀性的装置,托盘上方沿径向设置一组非接触、发光补偿的光学温度计,反馈托盘上多个环状区域内单个或多个外延片的温度。温度控制器以外延片温度的统计平均值与外延工艺规定温度的差异最小为目标,独立控制托盘下方的若干加热元件的功率输出。每个环状区域内的多个外延片,由下方一个或相邻多个环状排列、径向覆盖面积较小的加热元件来对应加热,在不同温度的工艺条件下,能有效平衡外延片及托盘在径向的热量流失,实现对单个外延片和相邻外延片之间温度及均匀性的精确与稳定的控制。本发明还通过设置接触式热电耦温度计来测量加热器温度,作为外延工艺规定温度的参照点,同时监测加热器是否正常工作。
声明：
“用于MOCVD系统中控制外延片温度及均匀性的装置与方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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