本发明公布了一种流化床反应器自动控制系统,提出了流化床反应器主要参数的自动控制技术,系统由MCU主控电路、温度测量电路、流量测量电路、压强测量电路、键盘及显示电路、温度调节电路、流量调节电路组成,实现对流化床反应器的自动控制。MCU主控电路是以C8051F020单片机为核心,利用温度传感器和空气流量传感器对原料气的温度、流量进行测量,利用压力传感器对流化床反应器中的压差进行测量,根据不同的反应,三个参数应该合理地控制在一定的范围内,一旦出现超出范围的情况,利用温度调节和速度调节对原料气进行控制,可以使流化床反应器中的压差调整到合适的范围,简易键盘及LCD显示电路能够对不同反应类型的参数进行设置和实时参数显示。本发明适用于化工行业生产自动控制和化学工程相关实验的教学。
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