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WO3-x-WS2一维-二维异质结、制备方法及应用

650   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:23:05
本发明公开了一种WO3‑x‑WS2一维‑二维异质结、制备方法及应用，制备方法包括以下步骤：步骤1：将偏钨酸铵和硫粉放置在化学气相沉积反应腔体的加热区；偏钨酸铵和硫粉之间设置有炉塞；步骤2：将反应腔体填充保护气氛；步骤3：在保护气氛条件下，以10～30℃/min的速率升温至400～700℃，然后以10℃/min的速率升温至1100～1500℃，保温20～40min，随炉冷却至室温，设置在偏钨酸铵一侧的基底上得到所需异质结构；本发明通过制备工艺简单的一步化学气相沉积生长方法构建了WO3‑x‑WS2一维‑二维异质结构，在单层WS2二维纳米片上生长了高度约为7.1nm的WO3‑x一维纳米线；该异质结具有优异的光电探测性能。
声明：
“WO3-x-WS2一维-二维异质结、制备方法及应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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