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超高频晶片的抛光方法

936   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:20:19
本发明公开一种超高频晶片的抛光方法,该方法主要包括以下步骤:(1)频率测定;(2)全数分类;(3)LOT构成;(4)中性洗涤剂与超声波洗净;(5)超纯水超声波洗净;(6)干燥;(7)硫酸洗净;(8)硫酸洗净后纯水洗净;(9)第一次化学抛光;(10)第二次化学抛光;(11)送至下一流程。本发明使用化学抛光可以降低晶片破损率,提高晶片的加工频率,同时减少了机器的维护,有效地提高了抛光效率。
声明：
“超高频晶片的抛光方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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