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大面积MoS2薄膜生长方法

848   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:20:16
本发明公开了一种大面积MoS2薄膜生长方法，采用化学气相沉积法制备大面积MoS2薄膜，具体步骤如下：1)将三氧化钼和硫粉分别放置在炉子的中心和端头位置，将SiO2基底a、导热层b、瓷片c依次叠放平放在钼源上方，封闭连接管路；2)在封闭的石英管中通入保护气体5-10分钟进行排空，打开炉子加热开关，升温至700-800℃，保温10分钟，关闭加热，冷却至室温，即可获得尺寸范围50-300微米的MoS2薄膜。本发明提供的大面积MoS2薄膜的制备方法，可以大大缩短制备薄膜的反应时间，并且制备出的形貌均匀，所制备的MoS2薄膜可以应用于光电探测器件、逻辑电路、电子元器件等领域。
声明：
“大面积MoS2薄膜生长方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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