描述一种图案化过程建模方法。所述方法包括:利用过程模型的前端确定与图案化过程流程内的操作的过程物理学和/或过程化学相关联的函数;和利用所述过程模型的后端确定所述预测的晶片几何形状。所述后端包括所述晶片上的目标区域的体积表示。通过应用来自所述前端的所述函数以操控所述晶片的所述体积表示来确定所述预测的晶片几何形状。可以使用体积动态B树产生所述晶片的所述体积表示。可以使用水平集合方法来操控所述晶片的所述体积表示。与所述图案化过程流程内的所述操作的过程物理学和/或过程化学相关联的所述函数可以是速度/速率函数。可以使用射线追踪来确定所述晶片的模型化表面上的入射通量。
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