本实用新型提供一种原料供给装置,用于给清洗装置提供原料,其中,该装置包括一条提供化学品的管路和提供去离子水的管路,这两条管路共同连接到一条管路中以便将混合原料提供给清洗装置;该装置中还包括设置在所述两条管路上的数字流量器,用于测量流经对应管路的原料流量。所述的两条管路均分别设有调节钮,用于调节对应管路的原料流量。所述数字流量器连接一个显示屏,显示屏可以设置在原料供给装置外部,用于显示数字流量器测量的原料流量。本实用新型通过数字计量器可精确测量原料流量且显示在显示屏上。操作员可以精确获知化学品和去离子水的流量,精确调控流量,不仅能彻底清洗晶片表面,还能最大程度减少原料的用量,有效节约生产成本。
声明:
“原料供给装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)