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纳米级银针尖的高重现性制备方法

1033   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:17:28
一种纳米级银针尖的高重现性制备方法,涉及STM‑TERS银针尖的电化学刻蚀制备方法。1)待刻蚀银丝前处理:刻蚀用银丝在使用前需要用硼氢化钠溶液浸泡,以除去表面氧化层;2)电化学刻蚀装置选择:刻蚀装置选用两电极体系和三电极体系;3)银丝的电化学刻蚀:选择合适的刻蚀剂和刻蚀条件对银丝进行电化学刻蚀,到达刻蚀终点时及时切断电路,银丝末端形成尖锐光滑的针尖,即得纳米级银针尖。硫氰酸钾刻蚀剂无毒无害,制备的纳米级银针尖表面光滑,末端尖锐,纳米级银针尖的曲率半径在100nm以下,具有STM‑TERS增强活性。不仅可用于STM成像,还可用于TERS测试,具有高成像质量和高TERS活性。
声明:
“纳米级银针尖的高重现性制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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