本发明公开了一种气体扩散器清洗工艺及清洗辅助设备,涉及化学气相沉积装置清洗技术领域。本发明的一种气体扩散器清洗工艺及清洗辅助设备,包括一次剥离→二次剥离→研磨→喷砂→化学抛光→OVEN烘干→出库检查→包装;未剥离干净的气体扩散器进行二次剥离,所述二次剥离包括湿式喷砂→高压水洗,通过采用湿式喷砂去除局部残留,减少药液浸泡,避免孔径扩张,以保证气体扩散器孔径扩张量<0.03mm;另外,采用湿式喷砂局部作业时表面粗糙度不会明显变大,可满足气体扩散器表面具有一定粗糙度的要求,并保证研磨的均匀性。
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