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用于抛光垫窗口的抗反射层

950   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:14:38
一种在化学机械整平(CMP)系统中使用的用于抛光垫窗口的抗散射层。发明尤其适用于具有粗糙下表面窗口的情况。以显著减小光散射的方式在窗口的粗糙下表面上形成抗散射层,同时使得晶片的光学原位测量经受CMP工艺。减小的光散射导致信号强度增加,其有利于更耐久的光学原位测量能力。
声明:
“用于抛光垫窗口的抗反射层” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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