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浅沟渠隔离结构的制造方法

742   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:14:37
一种浅沟渠隔离结构的制造方法,于一基底上依序形成垫氧化层、罩幕层、介电抗反射涂布层与顶盖氧化层,然后于基底中形成一沟渠。接着,再于沟渠表面形成衬氧化层,且于基底上形成绝缘层并填满沟渠。随后以罩幕层作为研磨终点,以使用光学终点侦测系统作终点侦测的化学机械研磨制作工艺去除罩幕层上的绝缘层、介电抗反射涂布层与顶盖氧化层,其中罩幕层的厚度控制在第一固定范围,且介电抗反射涂布层的厚度控制在第二固定范围,使得光学终点侦测系统所使用的光源可以产生具有最大的反射光信号。然后再去除罩幕层与垫氧化层。
声明：
“浅沟渠隔离结构的制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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