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无表面铜沉积的盲孔填充方法

778   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:14:37
本发明属于盲孔填充技术领域，公开了一种无表面铜沉积的盲孔填充方法，利用电化学测试电镀液的电化学性质并模拟填孔工艺参数，在一定的电流密度或电压范围内可实现无表面铜沉积、铜从孔底向上加速生长的盲孔填充。所述无表面铜沉积的盲孔填充方法包括：将盲孔板浸入除油液中；将盲孔板浸入含过硫酸钠和硫酸的蚀刻液中；将盲孔板浸入硫酸中；将盲孔板垂直放入电镀液中作为阴极，另一边放入阳极，设置电流或者电压参数进行电镀。本发明通过电化学测试确定能实现无面铜填孔的电流密度或电压，填孔率可达90％以上，并且所用电流密度比工业生产的电流密度更小，填孔时间更短，效率更高，能达到节约能耗的目的。
声明：
“无表面铜沉积的盲孔填充方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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