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用于修补交替相移掩模的方法

1032   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:14:36
描述用于修补具有底切蚀刻的APSM掩模的方法。利用原子力显微镜的针尖来移除板上的缺陷上方的吸收层以及板上的缺陷的第一部分。利用电子束诱导蚀刻来移除缺陷的第二部分,该电子束诱导蚀刻包括:在缺陷的第二部分上方引入第一气体以便形成用于蚀刻缺陷的第一化学物;以及停留电子束。利用电子束诱导沉积法来在板上重建具有悬垂结构的吸收层。在板上方引入第二气体以便形成用于在板上形成不透明材料的第二化学物。使电子束停留预定时间以便诱导在板上形成该不透明材料。对于一个实施例,测量缺陷的轮廓以便控制蚀刻。
声明：
“用于修补交替相移掩模的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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