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晶圆表面平坦化的方法

736   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:13:37
本发明公开了一种晶圆表面平坦化的方法,包括,提供表面具有介质层的晶圆,包括中心区域以及环绕中心区域的边缘区域;去除边缘区域部分厚度的介质层;对于整个晶圆表面的介质层进行化学机械研磨,其中所述边缘区域为试片研磨后介质层厚度大于蚀刻通孔深度的介质层区域,边缘区域介质层去除厚度大于或等于通过试片测得的化学机械研磨后晶圆中心区域的介质层和晶圆边缘区域的介质层的平均厚度差距。本发明晶圆表面平坦化的方法使得晶圆表面的介质层在经过化学机械研磨之后,晶圆边缘区域的介质层厚度与晶圆中心区域的介质层厚度差距缩小,从而提高了晶圆表面平坦化的程度。
声明：
“晶圆表面平坦化的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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