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多结太阳电池渐变缓冲层的腐蚀方法

734   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:13:36
本发明涉及一种多结太阳电池渐变缓冲层的腐蚀方法。本发明属于半导体材料技术领域。一种多结太阳电池渐变缓冲层的腐蚀方法，其特点是：多结太阳电池渐变缓冲层的腐蚀过程为：在砷化镓衬底上生长0.8-1.2μm的GaAs缓冲层，180-220nm的GaInP阻挡层，1400-1800nm的AlGaInAs渐变缓冲层；将外延片用光刻胶进行保护，同时露出需要腐蚀测厚的部分；用化学腐蚀液对裸露部分进行腐蚀，化学腐蚀液采用柠檬酸、H2O2和磷酸溶液，腐蚀液温度为20～25℃；腐蚀完毕后，用丙酮溶液除去光刻胶，用无水乙醇及去离子水将外延片清洗干净后，即可测量AlGaInAs渐变缓冲层厚度。本发明具有方法简单，操作方便，安全稳定，重复性好，不腐蚀GaInP阻挡层，可以实现准确测量渐变缓冲层的厚度等优点。
声明：
“多结太阳电池渐变缓冲层的腐蚀方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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