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用于减少光学基片反射的涂层、方法和设备

1063   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:13:36
描述了一种对光学基片涂敷减反射(AR)涂层的方法。该涂层的厚度和成分,可通过将对于与人的视觉系统灵敏度成角度相关和成波长相关的涂层的菲涅尔反射系数之积减至最小来确定,以将此涂敷制品感知的反射率减至最小。带有化学惰性气体如氩和氮的紧凑的反应室被抽真空并冲入化学惰性气体,例如氩或氮。一或多个分子组成的先质通过等离子体增强的化学气相沉积(PECVD)进行沉积,以形成减反射薄膜。基于被控制厚度的含氟聚合物薄膜的单层减反射涂层以及有机、有机硅的和或无机多涂层被描述。也被提供的是使用偏振发光二极管、偏振光学滤光片和光电二极管的光学监测薄膜生长的方法。来自监测器的反馈被用于控制先质流量,以预定的减反射特性产生单涂层和多涂层。
声明：
“用于减少光学基片反射的涂层、方法和设备” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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