本发明涉及一种低发射率及低吸收比热控涂层的制备方法。包括以下操作步骤:(1)按常规
铝合金浸蚀处理方法进行前处理;(2)将前处理天线阵面放入化学抛光溶液中化学抛光;(3)将抛光天线阵面按电压——时间动态参数关系微调技术进行
电化学氧化;(4)按常规热纯水封孔处理,得到具有高精度低发射率/低吸收比热控涂层的铝合金缝隙波导天线阵面;(5)按常规半球发射率和太阳低吸收比测试方法进行测试;测试结果是半球发射率εH为0.32±0.02,太阳吸收比αs为0.18±0.02;(6)本发明的高精度低发射率及低吸收比热控涂层经总遭遇量为1.6×1020个/cm2的耐原子氧空间环境试验后,外观完好,不起泡、不起皮,不剥落,试验前后半球发射率和太阳吸收比的变化小于0.02。
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