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低发射率及低吸收比热控涂层的制备方法

910   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:13:36
本发明涉及一种低发射率及低吸收比热控涂层的制备方法。包括以下操作步骤：(1)按常规铝合金浸蚀处理方法进行前处理；(2)将前处理天线阵面放入化学抛光溶液中化学抛光；(3)将抛光天线阵面按电压——时间动态参数关系微调技术进行电化学氧化；(4)按常规热纯水封孔处理，得到具有高精度低发射率/低吸收比热控涂层的铝合金缝隙波导天线阵面；(5)按常规半球发射率和太阳低吸收比测试方法进行测试；测试结果是半球发射率εH为0.32±0.02，太阳吸收比αs为0.18±0.02；(6)本发明的高精度低发射率及低吸收比热控涂层经总遭遇量为1.6×1020个/cm2的耐原子氧空间环境试验后，外观完好，不起泡、不起皮，不剥落，试验前后半球发射率和太阳吸收比的变化小于0.02。
声明：
“低发射率及低吸收比热控涂层的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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