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Sn掺杂ZnO半导体材料及制备方法、及其应用

749   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:04:04
本发明涉及一种用Sn掺杂ZnO半导体材料及制备方法，以及此种材料的应用，属于半导体薄膜制备技术领域。本发明的制备方法是，将Sn粉与Zn粉混合在氧气与氩气的气氛中加热以CVD（化学气相沉积）沉积到器件表面形成Sn掺杂ZnO半导体材料。所述材料的组织结构是尺寸为40~100nm纳米针和200~500nm纳米棒的混合网状结构。本发明能够实现Sn掺杂ZnO纳米薄膜的可控生长；能够实现室温下对丙酮、酒精等气体的检测，也就是说采用该方法可以制备出室温气敏性元器件，能够实现室温条件下气敏元件的选择性：对酒精比丙酮气敏性好。提供的制备方法生长温度低，设备简单，成本低，没有环境污染。
声明：
“Sn掺杂ZnO半导体材料及制备方法、及其应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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