本发明公开了一种提升熔石英光学元件损伤阈值的后处理方法,该方法首先利用荧光共焦显微技术检测熔石英光学元件亚表面缺陷分布的范围与尺度,然后通过KHz和MHz频率的多频超声波交替复用辅助化学腐蚀技术,针对不同深度分布的亚表面缺陷刻蚀不同的深度,针对不同尺度的亚表面缺陷采用不同的频率,逐层次的剥离亚表面缺陷层,以达到提升损伤阈值的目的。本发明对于光学元件具有全局处理能力,经过氢氟酸腐蚀处理以后抛光沉积层全部去除,暴露了亚表面损伤层中的划痕,且划痕尖锐的新貌得以很好的钝化,引入多频超声波/兆声波辅助可以作用不同尺度的划痕钝化,防止刻蚀反应副产物再沉积,提高工艺稳定性,可以极大的稳定的提升熔石英光学元件的损伤阈值。
声明:
“提升熔石英光学元件损伤阈值的后处理方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)