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光谱研究金属及合金之缓蚀剂的作用及其择优化表面技术

784   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 08:01:27
光谱研究金属及合金之缓蚀剂的作用及其择优化表面技术。本发明属于光谱学与金属腐蚀与防护技术相结合的技术领域。固定光谱电解池(如图)由以半圆形硅柱2作载体,表面化学镀金,电沉积被研究对象的金属为电极1(铜线8相接),对电极纯铂电极3,及参比饱和甘汞电极4,进出N2气口5,6构成,并置全反射的光路中,以溶液进出口7,将缓蚀剂于池中换液,并静置数小时,使电极表面自组装上缓蚀剂分子。用原位表面增强红外光谱,对上样品进行电位调制分析。与以往技术相比,其通过在红外窗口半圆形硅柱上,镀金属纳米薄膜为电极,又利用原位表面增强红外技术,研究不同缓蚀剂分子在金属表面随电位变化的吸附构型,了解缓蚀剂作用过程,使此技术在金属或合金防蚀与保护上有更有效的广泛应用。
声明:
“光谱研究金属及合金之缓蚀剂的作用及其择优化表面技术” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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