本发明公开了一种高硅硅钢片的制作方法,涉及硅钢片生产技术领域,包括如下步骤:S1、取普通硅钢片;S2、在普通硅钢片表面涂硅层;S3、对涂层后的硅钢片进行高温扩散;S4、检测硅含量;S5、测试处理后的硅钢片的磁性能;本发明所公开的高硅硅钢片的制作方法,采用等离子化学气相沉积法在普通硅钢片表面涂硅层,温度低,时间短,工艺重现性好,表面光洁,化合物层可达10μm以上,并有非晶态形成,能满足0.1mm厚钢片达6.5%Si的要求,与相同底Si的无取向硅钢片相比,铁损P10/50降低50%以上,其它磁性能也大有改善。
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