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半导体的加工方法

1132   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:55:18
本申请公开了一种半导体的加工方法，包括以下步骤：（1）晶圆处理制程，先将晶圆适当清洗，再进行氧化及化学气相沉积，然后进行涂膜、曝光、显影、蚀刻、离子植入和金属溅镀，最后完成数层电路及元件加工与制作；（2）晶圆针测制程，用针测仪对晶圆的每个晶粒检测其电气特性；（3）构装，将单个的晶粒固定在塑胶或陶瓷制的芯片基座上，并把晶粒上蚀刻出的引接线端与基座底部伸出的插脚连接，封胶，最后盖上塑胶盖板，用胶水封死；（4）测试制程，将封装后的芯片置于测试装置的模拟环境下测试其电气特性，包括消耗功率、运行速度和耐压度，经测试后的芯片，依其电气特性划分为不同等级。
声明：
“半导体的加工方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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