本发明公开了一种Low-E玻璃的生产新工艺,其特征在于:其工艺流程为:1.上片;2.清洗;3.检测;4.镀膜;5.在线光度计测颜色;6.后清洗;7.在线外观检测;8.下片;9.成品包装,步骤4中的镀膜在磁控溅射镀膜室内完成,包括金属氧化层沉积和功能层沉积。本发明的有益效果是:增加了SST及Cu层,与电离子进行化学反应,形成新的功能膜;通过SST及Cu层的加入使功能膜的低辐射性能提高,同时,新的功能膜层的加入更好的保护了Ag层,提高了膜层的耐腐蚀性和耐磨性。
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