本发明涉及一种用于物体的表面处理的装置,其带有容纳待处理的物体(12)的处理腔(14)、向物体(12)对准的用于UV辐射的辐射源(16)和用于以工作流体加载处理腔(14)的设备(24),其中,工作流体包含至少一个惰性成分和至少一个光化学活性的活性成分。根据本发明,提出一种构造用于检测在位于处理腔(14)中的工作流体处和/或在物体(12)处的测量数据的测量单元(20),其中,设置有与测量单元(20)相连接的控制单元(18)用于根据所检测的测量数据影响工作流体的组成。
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