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MRAM器件中MTJ单元的平坦化方法与MRAM器件

822   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:41:41
本申请提供了一种MRAM器件中MTJ单元的平坦化方法与MRAM器件。该平坦化方法包括：步骤S1，在衬底的表面上设置预存储结构，预存储结构包括MTJ单元，MTJ单元的第一表面与衬底的距离为h1，MTJ单元的MTJ薄膜的远离衬底的表面与衬底的距离为h2；步骤S2，在MTJ单元的表面上设置第一介电层、抛光金属牺牲层和第二介电层，抛光金属牺牲层的第二表面与衬底的距离为h3，h2≤h3≤h1；步骤S3，对步骤S2形成的结构实施化学机械平坦化工艺，利用终点检测方法控制化学机械平坦化工艺，使得化学机械平坦化工艺去除第二表面所在平面上方的结构。该方法能准确地控制去除的终点，使得晶圆的均一性较好。
声明：
“MRAM器件中MTJ单元的平坦化方法与MRAM器件” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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