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用于半导体抛光的纳米水性硅溶胶的制备方法

897   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:36:52
本发明提供一种用于半导体抛光的纳米水性硅溶胶的制备方法。在无尘实验室中，向分析纯混合醇溶剂中加入分析纯催化剂和高纯水，搅拌均匀，配制溶液A；向溶液A中按时按量加入分析纯有机硅源，控制硅源加入量随着反应时间逐级递减；在25～45℃下搅拌反应5～15h，反应完成后加入高纯水，进行蒸发浓缩，得到高纯纳米水性硅溶胶。通过控制催化剂的加入量和混合醇的比例，控制硅溶胶在目标粒径±5nm的范围内生长；通过控制有机硅源的加入量逐级递减，使硅溶胶颗粒均匀稳定地生长，得到的水性硅溶胶性能稳定。根据半导体化学机械抛光液的需求，可调节成酸性或者碱性，具体为酸性2~4，碱性8~11，调节pH后，不会影响硅溶胶的稳定性。
声明：
“用于半导体抛光的纳米水性硅溶胶的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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