本发明公开了一种刚玉-莫来石复相陶瓷涂层 制备方法。采用一定的先驱体气相系统在450℃~650℃的温度 下通过减压化学气相沉积法制备出γ-Al2O3结合无定型SiO2复核氧化物涂层,然后在1250℃左右热处理即可获得。所用先驱体均为高纯气体,沉积炉内压力为76乇以下,设备为通用的化学气相沉积炉。可以通过调整进入沉积炉内的
氧化铝与氧化硅的先驱体流量比例获得不同组份的(0~100%)刚玉-(0~100%)莫来石复相陶瓷涂层。
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