本发明公开了一种近红外氟硼二吡咯荧光染料及其合成方法与应用,属于功能性荧光染料、有机合成和精细化学品领域。该发明荧光染料包括以下两种:式(一)和式(二)的荧光染料激发和发射光谱在近红外光区,半峰宽很窄,斯托克斯位移大于20,荧光量子产率大于0.65,对极性溶剂不敏感,具有优良的化学稳定性和光学稳定性。本发明染料可应用于制备荧光微球,在计量,标准,生物化学,免疫医学,分析化学,化学工业,微电子工业和生命科学领域具有重大试剂应用价值。
声明:
“一类近红外氟硼二吡咯荧光染料及其合成方法与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)