一种距离监控装置,适用于化学机械研磨机,化学机械研磨机的研磨头包括框架及薄膜,薄膜装设于框架上,且薄膜与框架于研磨头中形成多个气囊。距离监控装置包括多个距离检测器,分别设置于气囊所对应的框架上,将各个距离检测器位于框架上的位置设为基准点,各个距离检测器用以测量各个基准点与薄膜之间的距离。本发明可使经研磨后的基材具有较佳的表面平坦度。
声明:
“距离监控装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)