本发明提供一种晶圆清洁系统,包括存储罐、清洗室和回收罐,所述储液罐通过第一管道连接所述清洗室顶部,所述清洗室内设有隔离板,所述隔离板用于将所述清洗室分为上部和下部,所述回收罐通过第二管道和第三管道分别连通所述清洗室的上部和下部;所述隔离板上开设通槽,半导体晶圆收容在所述通槽内;干净的化学洗剂从所述清洗室的顶部流入以清洗半导体晶圆的上表面,使用过的化学洗剂从所述第二管道流入所述回收罐;所述晶圆清洁系统还包括浓度检测器,用于检测所述回收罐内液体的有效成分浓度,若所述浓度检测器的检测结果大于或等于一预设值,所述回收罐内的化学洗剂从所述第三管道流入所述清洗室下部以清洗所述晶圆的下表面。
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