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发光材料Cu2(etmp)4及合成方法

851   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:32:27
本发明公开了一种发光材料Cu2(etmp)4及合成方法。发光材料Cu2(etmp)4的分子式为：C44H44Cu2N16O8，分子量为：1052.05, Hetmp为3?乙氧基水杨醛缩?4?氨基?1, 2, 4?三氮唑希夫碱。将0.056g?0.112g分析纯3?乙氧基水杨醛缩?4?氨基?1, 2, 4?三氮唑希夫碱和0.040?0.080g分析纯乙酸铜混合，溶于5?10mL分析纯N, N’?二甲基甲酰胺溶液中，搅拌20分钟后加入分析纯乙腈5?10mL，继续搅拌20分钟后，室温下静置3天后，得到Cu2(etmp)4。Cu2(etmp)4在301nm的入射光照射下产生153.3a.u.强度的465nm的荧光；在900V的光电倍增管，3倍的放大系数下，过硫酸钾溶液中，产生了850a.u.强度且稳定的发光。本发明工艺简单、成本低廉、化学组分易于控制、重复性好且产量高。
声明：
“发光材料Cu2(etmp)4及合成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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