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用尘埃等离子体在常温下沉积碳化硅薄膜的装置

653   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:31:49
本发明属于低温等离子体化学技术领域。本发明由不包含基片的温度测控的等离子体辅助沉积碳化硅薄膜的装置加上尘埃颗粒的监控部分组成,其特征是:由激光器和光具组来照明尘埃颗粒,由记录设备和计算机来记录和分析尘埃颗粒的状况,沉积碳化硅薄膜的反应室设计成透明的或开一个以上观察窗口,用微凹的驱动极,直流负偏压电源,从反应室外向反应室内投入尘埃颗粒的部件来控制尘埃颗粒。本发明的效果和益处是能克服传统方法中由于高温所致的种种缺点,能够在常温下沉积碳化硅薄膜,可广泛用于需要沉积碳化硅薄膜的各种领域,改变工作介质,还可沉积其他类型的薄膜。
声明：
“用尘埃等离子体在常温下沉积碳化硅薄膜的装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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