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g-CN/Si异质结位置敏感探测器及其制备方法

876   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:28:48
本发明提出了本发明提出一种g‑CN/Si异质结位置敏感探测器及其制备方法，g‑CN/Si异质结位置敏感探测器包括硅衬底和硅衬底的上沉积的g‑CN薄膜，以及g‑CN薄膜上设置有四个电极；所属制备方法包括：(1)采用化学气相沉积在Si衬底上制备g‑CN薄膜；(2)在g‑CN薄膜上通过热蒸发技术蒸镀金属层，采用紫外光刻技术去除金属层多余的金属，得到电极结构。本发明的位置敏感探测器显示出极高的位置灵敏度，可以实现对光斑位置的实时追踪测试。
声明：
“g-CN/Si异质结位置敏感探测器及其制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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