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可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法

776   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 07:28:47
本发明公开了一种可用于深紫外极弱光探测的高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法。ZnGa2O4带隙宽度为4.4‑4.7eV,具有优异的热学和化学稳定性、较高的电子迁移率,能承受较高电流冲击,可用于深紫外光电探测器、发光二极管、低电压发光。本发明采用液相激光烧蚀和溶剂热法相结合的方式,通过在液体介质中激光烧蚀高纯锌靶和氧化镓靶,获得高活性溶剂热前驱体,经过溶剂热法合成高纯纳米结构ZnGa2O4。本发明所采用方法与现有ZnGa2O4纳米材料制备方法相比,具有产物高纯度、单一相结构、结晶性良好、尺寸均一、形貌可控、制备简单、实验环境温和、反应时间短等优点;制备的ZnGa2O4纳米材料可用于组装成深紫外光电探测器,并可实现对极弱光高灵敏、快响应、耐高压探测。
声明:
“可用于深紫外极弱光探测高纯纳米结构ZnGa2O4的制备方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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