本文的实施方式提供了一种用于在诸如等离子体增强化学气相沉积(PECVD)工艺之类的等离子体增强沉积工艺期间直接地监测衬底的温度的衬底温度监测系统。在一个实施方式中,一种衬底支撑组件包括:支撑轴;衬底支撑件,所述衬底支撑件设置在所述支撑轴上;以及衬底温度监测系统,所述衬底温度监测系统用于测量待设置在所述衬底支撑件上的衬底的温度。所述衬底温度监测系统包括光纤管、耦接到所述光纤管的光导、以及围绕所述光纤管和所述光导的接合处设置的冷却组件。在本文中,所述光导的至少一部分设置在延伸穿过所述支撑轴并进入所述衬底支撑件的开口中,并且所述冷却组件在衬底处理期间维持所述光纤管处于低于约100℃的温度。
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