本发明涉及一种基于Pt纳米颗粒修饰GaN纳米线的紫外光电探测器及其制造方法,属于光电探测器领域。本发明是通过化学气相沉积技术在蓝宝石衬底上生长GaN纳米线阵列,然后在GaN纳米线阵列上沉积一层Pt纳米颗粒,最后利用光刻技术在单根沉积有Pt纳米颗粒的GaN纳米线两端沉积一层金属电极。紫外探测器的光电性能测试结果显示,相比于没有Pt纳米颗粒修饰的GaN纳米线紫外光电探测器,有Pt纳米颗粒修饰的GaN纳米线紫外光电探测器显示出更大的光电流、更高的光响应度、外量子效率、开/关比,以及更快的开光速度和更好的光电流稳定性,具有很好的潜在应用。另外,该器件制造工艺简单、重复性强、工艺可控性强、成本低。
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“基于Pt纳米颗粒修饰GaN纳米线的紫外光电探测器及其制造方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
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