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用于陈化感测等离子体设备的半导体装置的方法和装置

933   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:25:57
一种等离子体设备陈化方法和被应用该陈化方 法的等离子体设备。所述陈化方法包括以下步骤：在操作等离 子体设备执行等离子体工艺前、测量在等离子体设备的工艺室 中出现的基于硅氧化物(SiOX)的 化学物种的光发射强度与基于碳氟化物化合物 (CFY)的化学物种的光发射强度 的比；确定所测量的光发射强度比的值是否在正常状态的预定 范围内；以及，当基于确定结果为使得所测量的光发射强度比 的值在正常状态的预定范围内时，将待在等离子体工艺中使用 的反应气体供给到工艺室时，陈化工艺室的内部以改变反应气 体的成分比，并由此改变光发射强度比。
声明：
“用于陈化感测等离子体设备的半导体装置的方法和装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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