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非晶Ga2O3光电探测器及其制备方法和性能提升方法

645   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:24:12
本发明公开了一种非晶Ga2O3光电探测器及其制备方法和性能提升方法，所述非晶Ga2O3光电探测器包括：衬底、沉积于所述衬底表面的掺氢非晶Ga2O3薄膜有源层和设置于所述掺氢非晶Ga2O3薄膜有源层上的电极；其中，所述掺氢非晶Ga2O3薄膜有源层为在20℃～400℃含氢气氛下，采用真空沉积法制备的非晶薄膜；所述真空沉积法包括磁控溅射、脉冲激光沉积、电子束沉积、化学气相沉积中的任一方法。
声明：
“非晶Ga2O3光电探测器及其制备方法和性能提升方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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