本发明属于材料测试技术领域,具体涉及了一种用于评估高反射率膜损耗稳定性的X射线辐照测试方法。本发明利用X射线的电荷积累效应,模拟高反膜因荷电积累的失效过程:采用的X射线源对高反膜表面进行荷电处理,在累积的处理过程中;同时利用光电子能谱仪原位监测高反膜表面化学态的变化,间断的进行XPS分析,检测高反膜表面的各元素的化学态变化。通过对随机选取的失效组样品和非失效组样品进行统计分析,并引入α和β参数描述O1s峰的对称性,只用到了两个拟合参数,就可以评估辐照荷电老化时的损耗变化,便于工程实际应用,是一种方便、快捷的判别方法。特别适合用于膜层材料工艺实验的快速优化、工艺监控等环节。
声明:
“用于评估高反射率膜损耗稳定性的测试方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)